Korleis påverkar klor kjemiske prosessar?

Vi har studert ein serie med små molekyl (6-9 atom) med 2-3 karbon, hydrogen og eitt eller fleire klor. Klor er viktig i mange organiske stoff og det kan både trekke til seg og gje frå seg elektron til naboatom. Målet har vore å få ei meir presis forståing av korleis klor påverkar eit utval sentrale prosessar (elektrofil addisjon, protonering og ionisering).

Målingane vart gjorde med teknikken fotoelektronspektroskopi, men teoretiske verktøy har vore like sentrale. Ved hjelp av reknekjemi (computational chemistry) kan ein få informasjon som ein ikkje klarer å måle eksperimentelt. Vi har rekna teoretiske verdiar for protonering og elektrofil addisjon av HCl. Vi har også rekna ionisasjonsenergiar og samanlikna resultatet med målingar. Slik kan teori og eksperiment utfylle kvarandre og ein kan vurdere kvaliteten på både målte og rekna data.

I mange samanhengar, t.d. innan mikroelektronikk, er det nyttig å kunne feste stoff til ei overflate for å kunne kontrollere kva kvalitetar denne overflata vil ha. Ein treng då nøyaktig kunnskap om korleis ulike stoff bind seg. Vi har sett på korleis eit molekyl med to klor vil binde seg til ei overflate av silisium og funne at det skjer ved at molekylet bryt ei eller to bindingar til klor og lagar ei eller to nye bindingar til flata. Vi har også granska korleis ein kan bruke samanlikningar med gassfasemålingar for å karakterisere korleis eit stoff er bunde til ei flate.

Personalia:

Maria G. Zahl (f. 1982) er fødd og oppvaksen i Ålesund. Ho fullførte ein master i fysikalsk kjemi ved Universitetet i Bergen i 2006. Frå 2007 har ho vore tilsett som stipendiat ved Kjemisk institutt under rettleiing av Leif J. Sæthre og Knut J. Børve.