Utvikling av litografiinstrument for mikrochipproduksjon

Litografi har vært et avgjørende verktøy i produksjon av mikroelektronikk i flere tiår og har gjort det mulig å produsere stadig mindre og mer komplekse enheter. Kravet om økt datakraft og ytterligere miniatyrisering i moderne teknologi har drevet utviklingen av avanserte litografiteknikker, men disse teknikkene er i ferd med å nå sine begrensninger. Et foreslått alternativ er atomlitografi med metastabile atomer.

Denne avhandlingen presenterer design og optimalisering av et atomlitografiinstrument med metastabilt helium, med mål om å oppnå mønsterdannelse på nanometerskala. Arbeidets fokus er design og konstruksjon av instrumentet, samt karakterisering av den metastabile heliumkilden og vurdering av dens egnethet for høypresisjonslitografi.

Personalia

Simen Hellner (f.1993) er utdannet fysiker og har en mastergrad i måleteknologi og instrumentering fra UiB. Veiledere for doktorgraden var professor Bodil Holst og senioringeniør Sabrina Eder.